HMDS 預處理真空系統通過對箱體內預處理過程的真空、烘烤、充氮、潔凈、HMDS加液等程式過程,參數控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。
二、產品特點:
1.控制界面:采用日本三菱 PLC+7寸觸摸屏控制系統,程式化運行,溫度系統,真空系統, 充氮系統,HMDS 注液系統。
2.控制模塊:控制模塊是本系統的核心模塊,它的作用是控制各個模塊的動作和時序,完成整個工藝過程。
3.內膽材質:整個系統采用優質醫用級316L不銹鋼材料制作,無發塵材料,適用百級光刻間凈化環境。
4.密封裝置:密封條為高溫硅膠制作,可耐溫不變形,門與箱體連接密封,加強密封效果。
5.加熱裝置:加熱器采用SUS304#被覆無塵化SHEATHED HEATER壽命長且無污染,依據使用溫度調整控制,節約能源。
6.加熱方式:采用無觸點SCR固態繼電器控制每段溫區發熱管輸出功率大小,接近恒定溫度時,加熱電流變小,使其恒定溫度。
7.底部結構:萬向移動福馬一體承重腳輪,固定好位置可落下支撐腳,方便移動及固定
8.可視窗:采用鋼化、防彈雙層玻璃觀察窗,便于觀察工作室內物品實驗情況。
9. 溫度傳感器 采用日制 PT100 鉑金電阻,精度±0.5%,反應靈敏,耐高溫。
10.真空系統:雙旋片真空泵、真空組件、壓力測量等組成,主要作用是置換氣體和抽走剩余 HMDS 蒸汽。
11.充氮系統:作用是在置換過程中,用氮氣來逐漸稀釋空氣或藥液蒸汽,從而最終替換空氣或藥液蒸汽的氣氛,氮氣流量,充入時間可控制。
12.HDMS 注液系統:HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計,配置不銹鋼藥液管道,使真空箱密封性能極好。
13.保護系統:相序保護,漏電保護,過載保護,控制線路,超溫保護,壓力過載保護,急停開關,工作狀態指示燈。
型號規格參數:
型號 |
SNR-HMDS-090 |
SNR-HMDS-210 |
電源電壓 |
220V/50HZ |
380V/50HZ |
控溫范圍 |
RT+10℃-250℃ |
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溫度分辨率 |
0.1℃ |
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溫度波動度 |
≤±0.5℃ |
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真 空 度 |
≤133Pa |
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工作室尺寸(mm) |
W450*D450*H450 |
W560*D600*H600 |
外形尺寸(mm) |
W850*D700*H1490 |
W960*D850*H1620 |
層板數量 |
2塊 |
3塊 |
功率 |
3KW |
4.5KW |